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氮化硼温度

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浏览:1-$thisrow.Hits-1 发布日期:2019-05-28 16:14:59【
信息摘要:

氮化硼纳米粒子有广泛的潜在应用,如固体润滑剂、热导性良好的电子封装材料、高效的催化剂载体材料等。制备氮化硼纳米粒子的方法较多,采用的硼源原料也有多种,但以硼酸酯等作为硼源,以氨气、氮...

氮化硼纳米粒子有广泛的潜在应用,如固体润滑剂、热导性良好的电子封装材料、高效的催化剂载体材料等。制备氮化硼纳米粒子的方法较多,采用的硼源原料也有多种,但以硼酸酯等作为硼源,以氨气、氮气作为氮源,采用化学气相沉积法(CVD)制备六方氮化硼(h-BN)纳米球体,是最可能实现生产规模的合成路径。

氮化硼


当CVD反应温度为950℃时,所得产物为规整的、表面光滑的球形形貌,其粒径最小,约为60 nm左右,粒径分布窄,高温氨化处理后的最终产物没有孪晶和团聚体,通过HRTEM检测,发现其内部构造是由类似富勒烯结构的球面状晶面叠加而成,层间距约为0.35 nm。CVD反应温度低于或高于950℃,所得最终产物均有孪晶或团聚体出现,粒径分布较宽。

随着CVD反应温度的提高,产物中硼氮元素的摩尔比接近1∶1,碳、氧等杂元素质量分数下降,但氧元素含量保持较高的水平,不低于5%,说明即使在高温下氮化硼纳米材料中的硼氧化合物稳定性较高。

无论CVD反应温度高低,产物中的主要成分是h-BN,其含量随温度升高而增加,同时随着温度进一步升高,碳氧等杂原子的除去,原来内部构造的球形晶面趋向于变得平整,其形貌变为扁平乃至片状。


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